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Stack與NICT共同開發(fā)出新型電場探測器 可準確測量出微小電場

發(fā)布時間:2009-11-27 來源:技術(shù)在線

產(chǎn)品特性:
  • 頂端部直徑約8mm
  • 100μm以下的測量分辨率
  • 60MHz~2.5GHz可檢測頻率范圍
  • 較高的靈敏度
應(yīng)用范圍:
  • 適用于電子設(shè)備的EMC測量
  • 天線附近的電場測量
  • 開發(fā)高頻電路時的驗證作業(yè)
  • 高速/高密度電路的放射電場測量以及超高速半導體的運行狀態(tài)分析
                                                                                                                                                    
日本Stack電子開發(fā)出了可準確測量微小電場分布狀態(tài)的光外差法光電效應(yīng)電場探測器“LEO-Probe”。該產(chǎn)品采用日本信息通信研究機構(gòu)(NICT)轉(zhuǎn)讓的技術(shù)開發(fā),適用于電子設(shè)備的EMC測量、天線附近的電場測量、開發(fā)高頻電路時的驗證作業(yè)、高速/高密度電路的放射電場測量以及超高速半導體的運行狀態(tài)分析等。

目前,無線通信的使用頻率日益增高,而且隨著以個人電腦為代表的電路運行速度的提高,越來越多的用戶希望能夠測量電磁場的強弱并了解其影響。人們通常采用以較小的金屬導體環(huán)形天線(Loop Antenna)等測量的方法,但這種方法存在想要測量的電磁場狀態(tài)會因金屬導體接近而發(fā)生改變的缺陷。

此次開發(fā)的探測器則不存在這種缺陷,其特點是,可在幾乎不影響測量電場的情況下,測量出微小電場的狀態(tài)。此次利用了對特殊結(jié)晶材料施加電場時結(jié)晶材料的光折射率會發(fā)生改變的光電(EO)效應(yīng),由于測量部分沒有使用金屬導體,因此可在幾乎不破壞電場的情況下進行測量。另外,還采用了可在結(jié)晶材料內(nèi)部通過光學頻率轉(zhuǎn)換使其產(chǎn)生中間頻率的光外差技術(shù),從而能以較低的頻率完成信號處理。能以較高的靈敏度穩(wěn)定地檢測出高頻信號。

為了便于攜帶,探測器實現(xiàn)了頂端部直徑約8mm、不含光纖部的長度約65mm的外形尺寸。通過聚集導入結(jié)晶材料的光,實現(xiàn)了100μm以下的測量分辨率。

此次開發(fā)試制的機型具備60MHz~2.5GHz的可檢測頻率范圍。預(yù)計今后會將最高頻率擴大至數(shù)THz。該公司計劃在2009年度底之前改進該產(chǎn)品,使其能夠檢測出40GHz左右的高頻信號。

另外,Stack電子還計劃在11月25日~27日于日本太平洋橫濱會展中心舉行的“微波展2009”上展出此次的試制機。
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