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羅姆首款無需肖特基勢壘二極管的SiC-MOS模塊已開始量產

發(fā)布時間:2012-12-26 責任編輯:abbywang

【導讀】通常,為了實現(xiàn)大電流化,一般采用增加MOSFET使用數(shù)量等方法來實現(xiàn),但這需要整流元件即二極管配套使用,因此長期以來很難保持小型尺寸。羅姆近日成功開發(fā)出無需整流元件—二極管的SiC功率模塊,支持1200V/180A,大幅降低逆變器電力損耗,現(xiàn)已開始量產。


日本知名半導體制造商羅姆(總部位于日本京都)面向工業(yè)設備和太陽能發(fā)電功率調節(jié)器等的逆變器、轉換器,開始SiC-MOS模塊(額定1200V/180A)的量產。該模塊內置的功率半導體元件全部由SiC-MOSFET構成,尚屬業(yè)界首次。額定電流提高到180A,應用范圍更廣,非常有助于各種設備的低功耗化、小型化。

另外,生產基地在羅姆總部工廠(日本京都),已經開始銷售樣品,預計12月份開始量產并出貨。

羅姆首款無需肖特基勢壘二極管的SiC-MOS模塊
圖1:羅姆首款無需肖特基勢壘二極管的SiC-MOS模塊

羅姆于2012年3月世界首家實現(xiàn)內置的功率半導體元件全部由碳化硅構成的“全SiC”功率模塊(額定1200V/100A)的量產。該產品在工業(yè)設備等中的應用與研究不斷取得進展;而另一方面,在保持小型模塊尺寸的同時希望支持更大電流的需求高漲,此類產品的開發(fā)備受市場期待。

通常,為了實現(xiàn)大電流化,一般采用增加MOSFET使用數(shù)量等方法來實現(xiàn),但這需要整流元件即二極管配套使用,因此長期以來很難保持小型尺寸。

圖2:相同封裝尺寸,電流提高50%
圖2:相同封裝尺寸,電流提高50%

此次,羅姆采用消除了體二極管通電劣化問題的第2代SiC-MOSFET,成功開發(fā)出無需整流元件—二極管的SiC功率模塊(SiC-MOS模塊),使SiC-MOSFET的搭載面積増加,在保持小型模塊尺寸的同時實現(xiàn)了大電流化。內置的SiC-MOSFET通過改善晶體缺陷相關工藝和元件構造,成功地攻克了包括體二極管在內的可靠性方面的各種課題。

由此,與逆變器中使用的一般Si-IGBT相比,損耗降低50%以上,在實現(xiàn)更低損耗的同時,還實現(xiàn)了50kHz以上的更高頻率,有利于外圍元件的小型化。

SiC-MOS模塊特點:

MOS單體即可保持開關特性不變。無尾電流,開關損耗更低

即使去掉SBD亦可實現(xiàn)與以往產品同等的開關特性。由于不會產生Si-IGBT中常見的尾電流,損耗可降低50%以上,有助于設備更加節(jié)能。另外,達到了Si-IGBT無法達到的50kHz以上的開關頻率,因此,還可實現(xiàn)外圍設備的小型化、輕量化。

圖3:與Si-IGBT相比,損耗降低50%以上
圖3:與Si-IGBT相比,損耗降低50%以上

可逆向導通,實現(xiàn)高效同步整流電路

一般Si-IGBT元件無法逆向導通,而SiC-MOSFET可通過體二極管實現(xiàn)常時逆向導通。另外,通過輸入柵極信號,還可實現(xiàn)MOSFET的逆向導通,與二極管相比,可實現(xiàn)更低電阻。通過這些逆向導通特性,與二極管整流方式相比,可在1000V以上的范圍采用高效同步整流方式的技術。

圖4:可逆向導通,實現(xiàn)高效同步整流電路
圖4:可逆向導通,實現(xiàn)高效同步整流電路
 

成功解決體二極管的通電劣化,通電時間達1000小時以上且無特性劣化

羅姆究明了體二極管通電的缺陷擴大機理,通過工藝、元件結構成功控制了產生劣化的因素。一般產品通電時間超過20小時導通電阻就會大幅增加,但本產品通電時間達1000小時以上導通電阻也不會增大。

圖5:通電時間達1000小時以上且無特性劣化
圖5:通電時間達1000小時以上且無特性劣化
 

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