你的位置:首頁 > 電路保護(hù) > 正文

氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇

發(fā)布時(shí)間:2023-01-10 責(zé)任編輯:lina

【導(dǎo)讀】從臺(tái)達(dá)電子的上述專利來看,其采用的專利布局策略是基于一個(gè)大的電路結(jié)構(gòu)框架,在各個(gè)具體的擴(kuò)展電路上去改進(jìn),以專利族1為代表,這種方式可以使得這些專利作為同族專利共同享有同一個(gè)最早優(yōu)先權(quán),另外也能彌補(bǔ)單個(gè)專利說明書內(nèi)容不夠豐富的缺陷,便于專利在審查中的修改。這種專利布局方式在很多公司研發(fā)出了核心產(chǎn)品技術(shù)時(shí)通常會(huì)采用到的,比如之前所介紹的納微半導(dǎo)體的專利布局策略也是如此。


專利族1

首先介紹的是臺(tái)達(dá)電子以2016年7月6日為優(yōu)先權(quán)日的一個(gè)專利族,其中共計(jì)包括14件INPADOC同族專利,分別布局在中國、中國臺(tái)灣以及美國。目前已授權(quán)的專利共計(jì)9件,分別是CN111211691B、TWI633754B、TWI686040B、TWI702798B、US10348286B2、US10498324B2、US10924105B2、US10826484B2、US10826479B2;處于審查中的有2件,分別是CN111969989A、CN114785094A;被駁回的有3件,分別是CN110011522A、CN107592015A、EP3742613A1。在已授權(quán)和審查中的11件專利中,目前已有9件專利被臺(tái)達(dá)電子轉(zhuǎn)移給了其子公司碇基半導(dǎo)體股份有限公司。

技術(shù)背景及問題:

根據(jù)該專利族技術(shù)說明書的記載,其所要解決的第一個(gè)問題是,現(xiàn)有技術(shù)需要采用單獨(dú)的負(fù)電源來關(guān)斷常閉型氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管;第二個(gè)問題是,現(xiàn)有的適用于硅金氧半場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵極驅(qū)動(dòng)電壓無法直接用于常閉型氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管,高電壓會(huì)損壞常閉型氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管。但實(shí)際上,上述專利有各自重點(diǎn)解決的更具體的技術(shù)問題。以下通過各專利的改進(jìn)點(diǎn)來進(jìn)一步介紹。

解決技術(shù)手段:

如圖中所示,該專利族解決上述問題的基礎(chǔ)方案包括:(1)采用了RC電路121與高壓VH、低壓VL電源配合產(chǎn)生正負(fù)驅(qū)動(dòng)電壓,(2)在柵極端加入了電壓鉗位電路122。


氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖1


然而,根據(jù)我們上一期關(guān)于松下專利的介紹可知,臺(tái)達(dá)電子在2016年所提出的這兩個(gè)技術(shù)方案也并非是其首創(chuàng)的,因此,其專利中必然還有更多技術(shù)細(xì)節(jié)。

技術(shù)點(diǎn)1——電壓鉗位電路

關(guān)于電壓鉗位電路122,專利族中展示了多種不同的實(shí)現(xiàn)方式,包括二極管和/或齊納二極管,下圖中給出了采用兩個(gè)反向齊納二極管串聯(lián)構(gòu)成的電壓鉗位電路,該方案也正是中國同族專利CN111211691B獨(dú)權(quán)1所授權(quán)的技術(shù)方案。



氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖2


技術(shù)點(diǎn)2——RRC電路

專利族中還展示了RC電路的多種變形實(shí)施例,通過在不同位置加入第二電阻構(gòu)成RRC電路,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)過沖電壓以及下沖電壓的改善,如下圖所示,這些方案則是同族專利US10498324B2獨(dú)權(quán)所保護(hù)的主要點(diǎn)。


氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖3


技術(shù)點(diǎn)3——單向?qū)ㄔ?br style="padding: 0px; margin: 0px auto;"/>
在基礎(chǔ)方案的基礎(chǔ)上,專利族中的部分專利進(jìn)一步在RC電路上并聯(lián)連接了諸如二極管的單向?qū)ㄔ兄谟行б种茤艠O驅(qū)動(dòng)信號(hào)的震蕩現(xiàn)象,進(jìn)而避免開關(guān)元件的誤導(dǎo)通。代表授權(quán)專利包括US10826479B2,TWI686040B,TWI702798B。


氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖4


技術(shù)點(diǎn)4——電容放電電路

該技術(shù)點(diǎn)是美國專利US10826484B2所保護(hù)的重點(diǎn),其主要采用了如下圖中所示的波形轉(zhuǎn)換電路120,其中加入了隔離單向?qū)щ娖骷?24以及一個(gè)PNP晶體管Q1。隔離單向?qū)щ娧b置 124 單向提供高電平VH,而 PNP晶體管Q1則是在控制器提供低電平VH時(shí)被導(dǎo)通,使得電容C1能夠通過電阻R放電至低電平VL2。


氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖5


以上就是臺(tái)達(dá)電子在該INPADOC同族專利中所涉及的一些技術(shù)改進(jìn)點(diǎn)的介紹??梢钥吹?,臺(tái)達(dá)電子所采用的策略是基于一個(gè)大的基本技術(shù)方案,在其基礎(chǔ)上再進(jìn)一步加入不同的變形示例,并解決更具體的技術(shù)問題。這種專利布局策略一方面可以使得專利族內(nèi)的各個(gè)專利的方案都很豐富,另一方面也能讓后續(xù)專利享有在先更早的優(yōu)先權(quán),都是能夠更有利于專利授權(quán)的。

專利族2

該專利族的最早優(yōu)先權(quán)日為2020年01月22日,包括兩件已授權(quán)專利US11463082B2

和TWI754522B,一件審查中的專利CN113162591A,三件專利目前同樣已被臺(tái)達(dá)電子轉(zhuǎn)移給了其子公司碇基半導(dǎo)體股份有限公司。

技術(shù)背景及問題:

該技術(shù)應(yīng)用于采用負(fù)電壓進(jìn)行關(guān)斷的常閉型氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極驅(qū)動(dòng)電路中,主要解決的問題在于如何防止柵極驅(qū)動(dòng)電路在啟動(dòng)過程中耦合來自其周圍電路的噪聲干擾,使得開關(guān)元件得以正確的被驅(qū)動(dòng)。

解決技術(shù)手段:

如下圖所示,該專利在臺(tái)達(dá)電子原有的基礎(chǔ)電路架構(gòu)上增加了一個(gè)連接到晶體管柵極端的開關(guān)S3。在其給出的第一個(gè)方案中,開關(guān)S3僅于電路啟動(dòng)時(shí)導(dǎo)通一次,隨后第三開關(guān)S3維持關(guān)斷狀態(tài),工作過程如圖6所示


氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖6


由于常閉型氮化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管閾值較低的緣故,在圖7中沒有開關(guān)S3時(shí),在柵極驅(qū)動(dòng)電路啟動(dòng)時(shí),晶體管的柵源極電壓VGS直接變?yōu)檎妷?,更容易?dǎo)致噪聲耦合至柵極驅(qū)動(dòng)電路,造成晶體管誤導(dǎo)通。而具有開關(guān)S3時(shí),其在第一個(gè)周期內(nèi)導(dǎo)通,將柵極接地,此后使得用于導(dǎo)通晶體管的驅(qū)動(dòng)信號(hào)直接從負(fù)電壓VGS開始啟動(dòng),避免了噪聲耦合帶來的誤導(dǎo)通問題。


氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖7


另外,專利中還給出如下圖所示的另一種控制開關(guān)S3的方案,除了在驅(qū)動(dòng)電路啟動(dòng)的時(shí)間之外,開關(guān)S3在每次S2導(dǎo)通之后且S1導(dǎo)通之前的階段會(huì)被導(dǎo)通,使得晶體管的VGS電壓從負(fù)電壓恢復(fù)到低電平VL的狀態(tài),且S3的導(dǎo)通時(shí)長可以被設(shè)計(jì)得比下圖中的更長(專利說明書中附圖5的補(bǔ)充方案)。雖然專利中未明確該方案的作用,但從其波形圖中可知,這樣控制一方面能降低晶體管導(dǎo)通瞬間的電壓變化率dv/dt,另一方面如果開關(guān)S3每次導(dǎo)通周期更長,則能降低驅(qū)動(dòng)電路的功率損耗。


氮化鎵柵極驅(qū)動(dòng)專利:RC負(fù)偏壓關(guān)斷專利技術(shù)之臺(tái)達(dá)電子篇
圖8


看到這,一些讀者可能就會(huì)發(fā)現(xiàn)這種構(gòu)思與英飛凌在GaN EiceDRIVER? IC中所采用的方法是相似的(關(guān)于英飛凌相關(guān)專利的介紹可參考文章末尾處的前期公眾號(hào)文章鏈接)。當(dāng)然,臺(tái)達(dá)電子的專利中電路實(shí)現(xiàn)方式不同,且主要功能仍然在于避免驅(qū)動(dòng)電路啟動(dòng)時(shí)的噪聲干擾。另外,該專利中還有更多的變形實(shí)例,考慮篇幅原因,在此就不再一一列舉了。

總結(jié)

從臺(tái)達(dá)電子的上述專利來看,其采用的專利布局策略是基于一個(gè)大的電路結(jié)構(gòu)框架,在各個(gè)具體的擴(kuò)展電路上去改進(jìn),以專利族1為代表,這種方式可以使得這些專利作為同族專利共同享有同一個(gè)最早優(yōu)先權(quán),另外也能彌補(bǔ)單個(gè)專利說明書內(nèi)容不夠豐富的缺陷,便于專利在審查中的修改。這種專利布局方式在很多公司研發(fā)出了核心產(chǎn)品技術(shù)時(shí)通常會(huì)采用到的,比如之前所介紹的納微半導(dǎo)體的專利布局策略也是如此。

另外,臺(tái)達(dá)電子在這種電路專利改進(jìn)上還給出了一個(gè)很好示例,尤其以專利族2為代表。從專利族2的電路結(jié)構(gòu)上來看,其改進(jìn)點(diǎn)僅僅是在原有方案上加入了一個(gè)開關(guān)S3,看似十分簡(jiǎn)單,但專利重點(diǎn)在于開關(guān)S3的具體控制策略,在實(shí)施例中給出了多種控制策略,最后還展示了開關(guān)S3與RC電路位置的不同配合從而帶來不同的技術(shù)效果。由此可見,在電路相關(guān)的專利創(chuàng)新中,電路本身的改進(jìn)并非一定相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)有多復(fù)雜,通過結(jié)合控制策略能夠使得方案更加完善,技術(shù)效果也更加明確。

作者簡(jiǎn)介:

龐濱洋,超凡知識(shí)產(chǎn)權(quán)檢索分析師,具有7年知識(shí)產(chǎn)權(quán)從業(yè)經(jīng)驗(yàn),擅長集成電路領(lǐng)域的專利檢索與分析。


免責(zé)聲明:本文為轉(zhuǎn)載文章,轉(zhuǎn)載此文目的在于傳遞更多信息,版權(quán)歸原作者所有。本文所用視頻、圖片、文字如涉及作品版權(quán)問題,請(qǐng)聯(lián)系小編進(jìn)行處理。


推薦閱讀:

車規(guī)碳化硅功率模塊 - 襯底和外延篇

碳化硅器件動(dòng)態(tài)特性測(cè)試技術(shù)剖析

數(shù)字隔離器可用于本質(zhì)安全應(yīng)用

低噪聲電源有多種類型:線性穩(wěn)壓器

模擬人體離子傳輸機(jī)制 仿生皮膚可進(jìn)行自我愈合

特別推薦
技術(shù)文章更多>>
技術(shù)白皮書下載更多>>
熱門搜索
?

關(guān)閉

?

關(guān)閉